HCl과 H2O2를 이용한 폐 FeCl3 에칭액의 재생

Title
HCl과 H2O2를 이용한 폐 FeCl3 에칭액의 재생
Other Titles
Regeneration of Waste Ferric Chloride Etchant Using HCl and H2O2
Authors
탁용석
Keywords
terric chloride, Hydrogen peroxide, Fenton reaction, etching, regeneration
Issue Date
2013
Publisher
공업화학
Series/Report no.
공업화학; 제24권 제1호 pp 67~71
Abstract
철, 구리, 알루미늄 등과 같은 금속의 에칭액으로 사용되는 FeCl3 용액의 에칭능력은 에칭 과정에서 Fe 3+이 Fe 2+로 환원 되면서 감소하게 된다. 에칭능력의 감소는 에칭 속도에 영향을 주기 때문에 시간당 제거되는 금속의 양이 감소하여 에칭 효율이 저하되며, 폐 FeCl3 용액은 환경에 유해하며, 처리시 경제적인 문제점을 지니고 있다. 본 연구에서는 폐 FeCl3 에칭액에 HCl 첨가 후 O2, H2O2 등과 같은 강한 산화제를 이용한 에칭액 재생 방법과 재생된 에칭액을 이용한 금속 에칭시 산화-환원 전위(ORP) 및 에칭능력과의 관계를 조사하였다. 연구 결과 폐 FeCl3 에칭액 대비 2 vol%의 HCl과 미량의 H2O2를 이용하여 재생된 FeCl3의 에칭 능력이 향상되었으며, 재생액을 이용한 에칭시 에칭액내의 Fe 2+ , Fe 3+의 농도변화로 인하여 ORP를 기준으로 하는 방법보다 에칭시간을 일정하게 하는 것이 보다 효율적인 방법으로 제시되었다.
URI
http://dspace.inha.ac.kr/handle/10505/34220
ISSN
1225-0112
Appears in Collections:
College of Engineering(공과대학) > Chemical Engineering (화학공학) > Local Access Journal Papers, Reports(화학공학 논문, 보고서)

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