유도결합형 플라즈마원을 이용한 고선택비 산화막 식각에 관한 연구

Title
유도결합형 플라즈마원을 이용한 고선택비 산화막 식각에 관한 연구
Other Titles
A Study on the High SelectiveOxide Etching using Inductively Coupled Plasma Source
Authors
이석현
Keywords
High density plasma(고밀도플라즈마), Planar type magetized inductively couple plasma(평판형자화유도 결합 플라즈마), Ar plasma(Ar 플라즈마), Oxide etch(산화막 식각), Selectivity(선택도)
Issue Date
1998
Publisher
한국전기전자재료학회
Series/Report no.
Journal of KIEEME ; Vol.11 No.4
URI
http://uci.or.kr/I410-ECN-0102-2008-560-001998406
http://dspace.inha.ac.kr/handle/10505/29600
ISSN
1226-7945
Appears in Collections:
College of Engineering(공과대학) > Electrical Engineering (전기공학) > Local Access Journal, Report (전기공학 논문, 보고서)

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