홀로우 캐소드 플라즈마 배열에 생성된 대면적 H2 플라즈마 특성에 대한 연구

Title
홀로우 캐소드 플라즈마 배열에 생성된 대면적 H2 플라즈마 특성에 대한 연구
Authors
박해중
Keywords
홀로우캐소드플라즈마배열에생성된대면적h2플라즈마특성에대한연구
Issue Date
2010
Publisher
인하대학교
Abstract
최근에 40nm이하의 반도체 공정에는 고밀도 대면적의 H2 플라즈마의 필요성이 크게 대두 되었다. 그 이유는 감광제 제거공정이나 게이트 형성 공정에서 기존의 O2 플라즈마나 CF4 플라즈마가 기판에 손상을 끼치기 때문이다. 본 논문에서는 대면적에서 균일성을 갖는 고밀도 H2 플라즈마를 얻기 위해 hollow cathode의 배열을 이용한 연구를 하였다. 200mm의 지름을 갖는 cathode plate에 형성되는 hollow hole들의 지름, 깊이,
Description
1. 서 론 1 2. 연구배경 3 2.1 Hollow cathode discharge 3 2.2 Hollow cathode의 역사 6 2.3 DC hollow cathode의 동작 7 2.4 RF hollow cathode의 동작 9 3. H2 hollow cathode plasma 특성연구 12 3.1 HCPA system의 장치구성 12 3.2 Hollow cathode array의 design에 따른 작동범위 연구 14 3.3 OES와
URI
http://dspace.inha.ac.kr/handle/10505/20089
Appears in Collections:
College of Engineering(공과대학) > Computer Engineering (컴퓨터공학) > Theses(컴퓨터정보공학 석박사 학위논문)
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