Photolithography와 imprint lithography를 사용한 새로운 3차원 구조물 제작방법/

Title
Photolithography와 imprint lithography를 사용한 새로운 3차원 구조물 제작방법/
Authors
신상현
Issue Date
2009
Publisher
인하대학교
Abstract
본 연구에서는 thermal imprint lithography의 장점과 photolithography의 장점을 결합하여 hybrid imprint lithography (HIL)공정을 개발하였다. 이를 통해 여러 번의 공정을 거치지 않고 한번에 3차원 구조물을 손쉽게 제작할 수 있는 방법을 제시하였다. Thermal imprint lithography의 공정조건 (시간, 온도, 압력)을 최적화 하기 위한 실험을 진행하였다. 이를 위한 기준공정 시간은
Description
1. 서론 = 1 2. 본론 = 6 2-1. Nano imprint lithography 공정과 사용장비 = 6 2-2. ICP 시스템 = 10 2-3. 접착방지막 = 14 3. 실험방법 = 18 3.1. Nano mold 제작 = 18 3.2. Hybrid imprint lithography process = 21 4. 실험 결과 및 토의 = 23 4.1. Nano mold 제작 = 23 4.2. 접착방지막 = 25 4.3. 압력(Pre
URI
http://dspace.inha.ac.kr/handle/10505/20057
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College of Engineering(공과대학) > Computer Engineering (컴퓨터공학) > Theses(컴퓨터정보공학 석박사 학위논문)
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