엠보싱용 실리콘 몰드 제작을 위한 Cl2 가스 기반의 건식 식각/

Title
엠보싱용 실리콘 몰드 제작을 위한 Cl2 가스 기반의 건식 식각/
Authors
김보순
Issue Date
2008
Publisher
인하대학교
Abstract
임프린트 리소그래피(Imprint lithography)는 저가 / 대량 생산 기술 중 하나이다. 이 기술에서는 실리콘 몰드의 형상이 매우 중요하다. 광학 소자 제작에 있어 몰드의 형상이 광학 소자의 성능을 좌우하기 때문이다. 따라서 본 논문에서는 기존의 F 이온 기반 시각의 단점을 보완하기 위하여 Cl2 가스 기반의 식각을 시도하였다. 할로겐 및 혼합 가스는 통상적인 플라즈마 시각에 사용되었고, 현재는 F 이온 기반의 식각과 Cl2 가스 기반의 식각이
Description
1장. 서론 = 1 1-1. 실리콘 몰드를 이용한 폴리머 구조의 저가 / 대량 복제 = 1 1-2. 광학 소자에 적합한 실리콘 식각 기술 개발의 필요성 = 2 2장. 실리콘의 식각 이론 = 4 2-1. 실리콘의 습식 / 건식 식각 = 4 2-2. 건식 식각 시 SF_(6) 가스 기반과 Cl₂ 가스 기반의 차이 = 7 1) SF_(6) 가스 기반의 실리콘 식각 = 7 2) Cl₂ 가스 기반의 실리콘 식각 = 11 2-3. 광학 소자와의 적
URI
http://dspace.inha.ac.kr/handle/10505/20016
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College of Engineering(공과대학) > Computer Engineering (컴퓨터공학) > Theses(컴퓨터정보공학 석박사 학위논문)
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