하이브리드 임프린트 리소그래피를 이용한 삼차원 광 도파로 제작에 대한 연구

Title
하이브리드 임프린트 리소그래피를 이용한 삼차원 광 도파로 제작에 대한 연구
Authors
심세환
Keywords
하이브리드임프린트리소그래피를이용한삼차원광도파로제작에대한연구
Issue Date
2010
Publisher
인하대학교
Abstract
본 논문에서는 광 손실을 줄이기 위하여 기존에 없었던 평면적으로 줄어들면서 수직적으로도 동시에 기울기를 가지는 삼차원 mode size adapter를 고안하여 제작하였다. 제작 방법에 있어 thermal imprint와 photolithography를 결합하여 hybrid imprint lithography (HIL)공정을 개발하여 여러 번의 공정을 거치지 않고 한번에 손쉽게 삼차원 구조물을 제작할 수 있는 방법을 제시하였다. 이는 thermal im
Description
제 1 장 서론 1 제 2 장 Hybrid Imprint Lithography 공정 3 2.1. Hybrid Imprint Lithography 3 2.1.1 Photolithography process 3 2.2.2 Nanoimprint lithography process 4 제 3 장 Mode Size Adapter의 최적 설계 7 3.1. Mode Size Adapter 설계 및 시뮬레이션 7 3.2. Mode Size Adapter
URI
http://dspace.inha.ac.kr/handle/10505/19341
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College of Engineering(공과대학) > Computer Engineering (컴퓨터공학) > Theses(컴퓨터정보공학 석박사 학위논문)
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