가열식 나노임프린트 리소그래피 공정에 대한 스트레스 분포의 수치해석에 관한 연구=

Title
가열식 나노임프린트 리소그래피 공정에 대한 스트레스 분포의 수치해석에 관한 연구=
Authors
조범구
Keywords
나노임프린트 리소그래피
Issue Date
2009
Publisher
인하대학교
Abstract
최근 마이크로 / 나노스케일 패턴 (micro / nano scale pattern)의 대량생산을 위한 새로운 기술 연구의 목표는 형상을 만드는 공정 (demolding process) 중 가열식 임프린트 리소그래피 (thermal imprint lithography)에서 미소구조 (microstructure)의 일그러짐과 기울어짐으로 나타나는 스트레스 (stress)의 분포와 진화 같은 폴리머 레지스트 (polymer resist)의 기계적인 성질을
Description
제 1 장 서론 = 1 제 2 장 수치해석 모델 = 4 2.1 몰드 생성 = 4 2.1.1 경계조건 = 5 2.1.2 요소 타입과 메시 = 5 2.2 물질 특성 = 6 2.2.1 실리콘 = 6 2.2.2 PMMA = 6 2.3 공정상의 가정 = 13 2.4 지배방정식 = 15 2.4.1 Continuity Equation = 15 2.4.2 Navier-Stokes Momentum Equation = 16 2.4.3 St
URI
http://dspace.inha.ac.kr/handle/10505/17391
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College of Engineering(공과대학) > Electrical Engineering (전기공학) > Theses(전기공학 석박사 학위논문)
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