무산소동과 베릴륨동 합금의 Tension Annealing 공정에 따른 특성변화에 관한 연구

Title
무산소동과 베릴륨동 합금의 Tension Annealing 공정에 따른 특성변화에 관한 연구
Authors
정상교
Keywords
무산소동과베릴륨동합금의tensionannealing공정에따른특성변화에관한연구
Issue Date
2010
Publisher
인하대학교
Abstract
최근 정보통신, 반도체산업 등의 급속한 진보에 발맞추어 재료의 치수 또한 판으로부터 박판, 극박판, 박막의 시대가 되었다. 전자/정보통신기기, 예를 들어 휴대용 단말기, 프린터, 릴레이, IC용 리드프레임 등에 사용되는 금속재료는 점차 박막화, 세선화를 지향하고 있다. 금속재료는 형상이 작아지면서 그 재료의 특성은 표면특성에 지배를 받으므로 종래의 물리적, 기계적 성질을 그대로 적용하는 것이 불가능하다. 널리 알려져 있는 바와 같이 전자재료는 판으로부터
Description
국문요약 1 목 차 4 List of Figures 6 List of Tables 8 1. 서 론 9 2. 이론적 배경 12 2-1 무산소동(4N Cu)의 일반적인 특성 12 2-2 무산소동(4N Cu)의 용도 14 2-3 베릴륨동(Cu-Be의 일반적인 특성 15 2-4 베릴륨동(Cu-Be)의 가공경화 특성 18 2-5 고강도/고전도 Cu-Be합금 재료의 필요조건 24 2-6 베릴륨동(Cu-Be)의 미세조직 2
URI
http://dspace.inha.ac.kr/handle/10505/11924
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College of Engineering(공과대학) > Materials Science & Engineering (신소재공학) > Theses(신소재공학 석박사 학위논문)
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