Y-Si-Al-O-N 옥시나이트라이드 유리를 이용한 내플라즈마 소재 개발=

Title
Y-Si-Al-O-N 옥시나이트라이드 유리를 이용한 내플라즈마 소재 개발=
Authors
이정기
Keywords
Plasma etching
Issue Date
2009
Publisher
인하대학교
Abstract
As the rapid progress in the microelectronics manufacturing industry such as display, semiconductor and MEMS, the etching process condition becomes highly critical due to the line width and the space becoming smaller and smaller. Plasma enhanced etching p
Description
Ⅰ. 서론 = 1 Ⅱ. 이론배경 = 3 1. 플라즈마 공정 장비용 소재개발 기술 = 3 2. 플라즈마 식각 = 5 3. 옥시나이트라이드 유리 = 8 4. 내플라즈마성 = 14 5. XPS analysis = 16 Ⅲ. 실험방법 = 20 1. 시료 및 조성 = 20 1.1 출발원료 = 20 1.2 옥시나이트라이드 유리의 조성 = 20 1.3 옥시나이트라이드 glass의 제조 = 21 2. 특성평가 = 25 2. 1 XRD 분석
URI
http://dspace.inha.ac.kr/handle/10505/11914
Appears in Collections:
College of Engineering(공과대학) > Materials Science & Engineering (신소재공학) > Theses(신소재공학 석박사 학위논문)
Files in This Item:
12436.pdfDownload

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.

Browse