DC 및 RF 스퍼터링법으로 증착한 크롬 박막의 특성 비교=

Title
DC 및 RF 스퍼터링법으로 증착한 크롬 박막의 특성 비교=
Authors
박민우
Keywords
Cr, sputter, Thin film
Issue Date
2007
Publisher
인하대학교
Abstract
이 연구는 DC 및 RF 마그네트론 스퍼터링법을 이용하여 증착되는 크롬 박막의 제조방법 및 이를 이용하여 제조되는 크롬 박막에 관한 것이다. 크롬 박막은 DC 및 RF 마그네트론 스퍼터링과 전기도금법으로 탄소강 기판 위에 증착하였다. 탄소강 기판을 폴리싱 처리한 후, 아세톤, 메틸 및 Di-water이 혼합된 용액에 초음파 세정기를 사용하여 15분 동안 세정 처리 하였고, 질소 blow하여 건조시켰다. 스퍼터링 공정은 8 mTorr 압력의 챔버에서 실험
Description
Ⅰ. 서론 = 1 1. 기술개발의 중요성 = 1 1.1. 크롬도금의 특성과 용도 = 1 1.2. 크롬도금의 문제점 = 3 1.3. 6가 크롬 사용에 대한 세계 각국의 규제 = 3 2. 국내외 기술현황 = 4 2.1. 6가 크롬 대체 습식도금기술 = 4 2.2. 6가 크롬 대체 PVD 기술 = 5 2.3. 이온주입(Ion Implantation)법의 타당성 검토 = 5 2.4. 스퍼터링(Sputtering)법의 타당성 검토 =
URI
http://dspace.inha.ac.kr/handle/10505/11843
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College of Engineering(공과대학) > Materials Science & Engineering (신소재공학) > Theses(신소재공학 석박사 학위논문)
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