차세대 게이트용 유전체를 위한 ALD를 이용한 Al2O3막의 증착에 관한 연구 =

Title
차세대 게이트용 유전체를 위한 ALD를 이용한 Al2O3막의 증착에 관한 연구 =
Authors
김재범
Keywords
ALD(Atomic Layer Deposition)
Issue Date
2002
Publisher
인하대학교
URI
http://dspace.inha.ac.kr/handle/10505/11669
Appears in Collections:
College of Engineering(공과대학) > Materials Science & Engineering (신소재공학) > Theses(신소재공학 석박사 학위논문)
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