Maskless lithography system을 이용한 스트레인 게이지 패턴 제작

Title
Maskless lithography system을 이용한 스트레인 게이지 패턴 제작
Authors
강민형
Keywords
masklesslithographysystem을이용한스트레인게이지패턴제작
Issue Date
2010
Publisher
인하대학교
Abstract
최근 정보화 시대에 들어서면서 전자 제품의 소형화와 고집적화로 인하여 그에 부합되는 부품의 기술 개발에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다. 이를 구현하기 위한 기술로서 노광 공정이 부각되고 있다. 하지만 기존의 노광 공정에서 Mask 상에 이물질이 있을 때, 노광 후 불량품 발생, Mask 제작비용 및 유지관리비용의 발생 등 여러 문제점들의 발생하여 이를 해결하기 위해 마스크리스 노광 공정이 부각되고 있다. 마스크리스 노광 공정은 미세 패턴 형상을 C
Description
제 1장 서론 1 1.1 연구 배경 1 1.2 연구 목적 및 연구 수행 2 제 2장 DMD를 이용한 Maskless lithography system 4 2.1 미세패턴 제조 공정기술 5 2.2 노광 공정의 중요성 6 2.3 Maskless lithography system의 특징 및 장점 7 2.4 Maskless lithography system의 구성 8 2.4.1 DMD(Digital Micromirror Device) 8 2
URI
http://dspace.inha.ac.kr/handle/10505/10628
Appears in Collections:
College of Engineering(공과대학) > Mechanical Engineering(기계공학) > Theses(기계공학 석박사 학위논문)
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