SiH_4_ 환원에 의한 CVD-텅스텐막의 응력 및 전류누설 특성 =

Title
SiH_4_ 환원에 의한 CVD-텅스텐막의 응력 및 전류누설 특성 =
Authors
최성호
Keywords
전류누설
Issue Date
1992
Publisher
인하대학교
URI
http://dspace.inha.ac.kr/handle/10505/9220
Appears in Collections:
College of Engineering(공과대학) > Materials Science & Engineering (신소재공학) > Theses(신소재공학 석박사 학위논문)
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