마스크리스 포토리소그라피 구현을 위한 고 정밀 패턴 생성 알고리즘과 레이저 빔 에너지 중첩 조건과의 상관관계 연구

Title
마스크리스 포토리소그라피 구현을 위한 고 정밀 패턴 생성 알고리즘과 레이저 빔 에너지 중첩 조건과의 상관관계 연구
Authors
김종수
Keywords
마스크리스포토리소그라피구현을위한고정밀패턴생성알고리즘과레이저빔에너지중첩조건과의상관관계연구
Issue Date
2010
Publisher
인하대학교
Abstract
산업 발전화가 지속되면서 전자 기기, 디스플레이 장치등의 기능이 고밀도 직접화가 심화되고, 빠른 시간내에 모델이 변경되는 현상이 발생하면서 이에 따른 생산공정 기술의 변화가 요구되고 있다. 고밀도 직접화 기술을 구현하기 위해선 제품을 구동, 제어시켜주기 위한 고밀도 회로 구현 기술이 필요하다. 회로 패턴을 생성해주는 가장 중요한 기술은 노광처리 기술이며, 이 공정에서 레이어별 기본 회로 패턴을 구현하지 못하면 생산현장에서 요구하는 회로를 생산할 수가 없
Description
제1장 서론 1 1.1 연구배경 1 1.2 연구목적 5 1.3 논문의 구성 7 제2장 문헌연구 8 2.1 SLM을 이용한 포토리소그라피 개요 8 2.1.1 DMD 기반 포토리소그라피 8 2.1.2 GLV 기반 포토리소그라피 10 2.2 DMD 기반 미세패턴 구현 알고리즘 13 2.2.1 알고리즘 구성 13 2.2.2 알고리즘 적용 수식 13 제3장 레이저 단일 빔 에너지 분포 유형 분석 1
URI
http://dspace.inha.ac.kr/handle/10505/8635
Appears in Collections:
College of Engineering(공과대학) > Graduate School of Engineering (공학대학원) > Theses(공학대학원 석박사 학위논문)
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