계면활성제를 이용한 광도파로용 나노기공 필름의 특성분석 및 응용=

Title
계면활성제를 이용한 광도파로용 나노기공 필름의 특성분석 및 응용=
Authors
이세철
Keywords
nanoporous polymer film, refractive index, polymeric waveguide, optical waveguide, surfactant
Issue Date
2008
Publisher
인하대학교
Abstract
광도파로의 제작을 위해서 pore generator(porogen)로 계면활성제를 사용하여 nanoporous polymer film(이후로 NPF로 요약)을 준비하였다. NPF는 임계미셀농도(critical micelle concentration, CMC) 이상의 계면활성제를 포함한 PMMA 용액을 스핀 코팅하여 제작하였다. 필름 내의 기공 구조는 porogen의 종류, 용매, 고분자의 분자량과 조건들이 변수로 작용한다. 계면활성제로 사용한 Sodiu
Description
1. 서 론 = 1 1. 1. 광도파로의 정의 및 구조 = 4 1. 2. 광도파로의 원리 = 7 1. 3. 광학특성 고분자 재료의 특성 = 9 1. 3. 1. 굴절률 (Refractive index) = 9 1. 3. 2. 복굴절률 (Birefringence) = 11 1. 3. 3. 광손실(Optical loss) = 11 1. 3. 4. 가공성 = 15 1. 4. Nanoporous 물질 = 19 1. 4. 1. 실리카계 n
URI
http://dspace.inha.ac.kr/handle/10505/8111
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College of Engineering(공과대학) > Polymer Science and Engineering (고분자공학) > Theses(고분자공학 석박사 학위논문)
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