RF Magnetron Sputtering을 이용한 투명전극용 AZO막 제작과 특성 조사/

Title
RF Magnetron Sputtering을 이용한 투명전극용 AZO막 제작과 특성 조사/
Authors
이왕우
Issue Date
2008
Publisher
인하대학교
Abstract
투명전극 산화막 (Transparent conductive oxide : TCO)은 평판 디스플레이, 태양전지 등의 투명전극과 같은 광전자 소자에 사용되는데, 높은 투과도 (~ 90 % at 550 nm), 낮은 비저항 (~ 2 × 10-4 Ωm), 높은 일함수 (~ 4.8 eV), 우수한 에칭특성 등의 장점을 갖고 있는 ITO (indium tin oxide)가 그동안 널리 사용되어 왔다. 그러나 In의 희소성으로 인한 고가격, 유독성, 접착력 문제
Description
I. 서론 3 Ⅱ. 이론적 배경 7 2.1 투명전도막 7 2.1.1 투명전도막이란 7 2.1.2 투명전도막의 특성 8 2.1.2.1 전기적 특성 8 2.1.2.2 광학적 특성 10 2.1.2.3 에칭특성 12 2.1.3 투명전극재료 12 2.1.3.1 산화물(Oxide)기반의 투명전극재료 12 2.1.3.2 금속기반의 투명전극재료 15 2.1.3.3 유기투명전극재료 19 2.2 물리적 기상 증착(Physi
URI
http://dspace.inha.ac.kr/handle/10505/11885
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College of Engineering(공과대학) > Materials Science & Engineering (신소재공학) > Theses(신소재공학 석박사 학위논문)
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